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意法半导体突破20纳米技术节点

发布时间:2024-04-09阅读:1278

 首款采用新技术的 STM32 微控制器将于 2024 下半年开始向部分客户出样片
18nm FD-SOI制造工艺与嵌入式相变存储器(ePCM)组合,实现性能和功耗双飞跃
2024年3月26日,中国-- 服务多重电子应用领域、全球排名前列的半导体公司意法半导体(STMicroelectronics,简称ST;纽约证券交易所代码:STM)发布了一项基于 18 纳米全耗尽绝缘体上硅(FD-SOI) 技术并整合嵌入式相变存储器 (ePCM)的先进制造工艺,支持下一代嵌入式处理器升级进化。这项新工艺技术是意法半导体和三星晶圆代工厂共同开发,使嵌入式处理应用的性能和功耗实现巨大飞跃,同时可以集成容量更大的存储器和更多的模拟和数字外设。基于新技术的下一代 STM32 微控制器的首款产品将于 2024下半年开始向部分客户提供样片,2025 年下半年排产。
意法半导体微控制器、数字IC和射频产品部总裁Remi El-Ouazzane表示:“作为处于半导体行业前沿的创新企业,意法半导体率先为客户带来汽车级和航天级FD-SOI和PCM技术。我们的下一步行动是,从下一代 STM32 微控制器开始,让工业应用开发者也能享受到这两项先进技术带来的诸多好处。”

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